欧美无码 光刻掩膜版筹划与加工指南
2024-10-25（温晓镭 xiaolwen@ustc.edu.cn欧美无码 2018.11） 1. 概括 光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask/Reticle），简称掩膜版，是微纳加工时期常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息革新到居品基片上。 图1 掩膜版涌现图 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层组成。其图形结构可通过制版工艺加工得回，常用加工开拓为直写式光刻开拓，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。 掩膜版行使终点时时，在波及光刻