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掩膜版 相关话题

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(温晓镭 xiaolwen@ustc.edu.cn欧美无码 2018.11) 1. 概括 光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask/Reticle),简称掩膜版,是微纳加工时期常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息革新到居品基片上。 图1 掩膜版涌现图 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层组成。其图形结构可通过制版工艺加工得回,常用加工开拓为直写式光刻开拓,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。 掩膜版行使终点时时,在波及光刻
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